Os alvos cerâmicos são usados em um processo chamado Physical Vapor Deposition (PVD), que é usado na produção de vários filmes finos, incluindo dispositivos semicondutores, células solares e revestimentos ópticos. Os alvos cerâmicos são feitos de materiais como alumina, dióxido de titânio, zircônia e dióxido de silício. Eles têm altos pontos de fusão, baixas taxas de pulverização catódica e alta pureza, tornando-os populares para uso em processos de PVD. Os alvos de pulverização catódica de cerâmica também são duráveis, quimicamente estáveis e resistentes ao calor e ao desgaste, tornando-os a escolha ideal para muitas aplicações industriais.
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