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ito sputtering

Alvo ITO

O alvo de ITO é composto por uma combinação de óxido de índio e óxido de estanho e serve como um componente crucial na produção do filme de ITO. Este filme ocupa uma posição significativa na área de informações eletrônicas e é usado em uma variedade de aplicações, como telas de cristal líquido, diodos emissores de luz orgânicos, telas sensíveis ao toque e células solares de filme fino.


Se você precisa de metas de ITO de alta qualidade para seus projetos, pesquisas ou processos industriais, Longhua é sua fonte de referência. Contacte-nos hoje para discutir suas exigências.

Alvo ITO

Princípio operacional do alvo ITO

Um alvo de ITO é uma combinação de óxido de índio e óxido de estanho e serve como uma matéria-prima crucial no campo da informação eletrônica, especificamente na produção de filme de ITO. Devido à sua condutividade elétrica superior, transparência óptica e alta estabilidade, o filme ITO é empregado em diferentes aplicações, como telas de cristal líquido, diodos emissores de luz orgânicos, telas sensíveis ao toque, e células solares de filme fino.


O Japão e a Coréia do Sul desfrutam de um monopólio no mercado-alvo de ITO há algum tempo, especialmente em aplicações de TFT de ponta. No entanto, nossa empresa alcançou inovação independente ao adquirir a tecnologia principal para a meta de ITO de alta qualidade de produção em massa, com vários direitos de propriedade intelectual e realizações de patentes. Atualmente, nossa capacidade de produção para metas de ITO é de aproximadamente 300 toneladas por ano e fornecemos um suprimento constante para todas as linhas de produção de TFT que variam de G2.5 a G10.5. A qualidade de nossas metas está no topo da China, atingindo padrões de classe mundial. Nossa crescente participação de mercado é uma prova da satisfação de nossos clientes na indústria.


Alvo de ITO planar

Item

Especificações

Componentes principais

In2O3:SnO2 = 90:10 (% em peso), outras relações estão sujeitas aos requisitos do cliente

Pureza

4N

Densidade relativa.

≥ 99,5% (densidade teórica 7,155g/cm3)

Especificações físicas

Forma de folha ou outras formas; as dimensões e desvios estão sujeitos ao acordo com o cliente

Tamanho de uma folha até 300x1400 x (6-12) mmt

Qualidade Aparência

Cor da aparência uniforme; superfície lisa, sem rachaduras, sem bordas lascadas ou cantos, e sem inclusões e poluentes estrangeiros

Defeitos internos

Sem rachaduras ou matéria estranha dentro


Alvo rotatório ITO

Item

Especificações

Componentes principais

In2O3:SnO2 = 90:10 (% em peso), outras relações estão sujeitas aos requisitos do cliente

Pureza

4N

Densidade relativa.

≥ 99,5% (densidade teórica 7,155g/cm3)

Especificações físicas

Forma tubular; as dimensões e desvios estão sujeitos ao acordo com o cliente

Tamanho de um segmento até 900 mmL

Qualidade Aparência

Cor da aparência uniforme; sem rachaduras, sem bordas lascadas ou cantos e sem inclusões e poluentes estrangeiros

Defeitos internos

Sem rachaduras ou matéria estranha dentro

Além disso, vários tipos de pós podem ser personalizados, como pó de óxido de índio, pó de ITO, pó IZO e assim por diante.


Alvo ITO

Quais são os benefícios de usar o alvo ITO?

Os alvos de ITO são uma escolha popular para aplicações de pulverização catódica devido às suas propriedades e benefícios exclusivos. O óxido de índio e estanho (ITO) é um óxido condutor transparente usado para criar revestimentos condutores transparentes que oferecem alta transparência óptica e condutividade elétrica. Alguns dos principais benefícios do uso de alvos de ITO incluem:


  • Alta transparência óptica: os alvos ITO são altamente transparentes nas faixas visível e infravermelho próximo do espectro eletromagnético, tornando-os ideais para aplicações como telas sensíveis ao toque e telas que requerem condutividade elétrica e transparência óptica.

  • Boa condutividade elétrica: os alvos de ITO têm excelente condutividade elétrica, permitindo a transferência eficiente de carga elétrica.

  • Alta estabilidade: Devido ao seu alto ponto de fusão e excelente estabilidade, os alvos ITO fornecem uma superfície estável para a deposição de filmes finos por pulverização catódica.

  • Versatilidade: os alvos ITO são compatíveis com uma ampla gama de materiais de substrato e podem ser depositados em superfícies planas ou curvas, tornando-os uma opção versátil para várias aplicações.

  • Acessibilidade: os alvos de ITO são relativamente acessíveis em comparação com outros revestimentos condutores transparentes, tornando-os uma escolha econômica para muitas aplicações.


No geral, os alvos ITO oferecem uma combinação atraente de transparência óptica, condutividade elétrica, estabilidade, versatilidade e acessibilidade, tornando-os uma escolha popular para aplicações de pulverização catódica.


Se você tiver alguma necessidade em produtos alvo ITO, não hesite em entrar em contato com Longhua. Nossa equipe de especialistas está pronta para ajudá-lo com suas dúvidas, fornecer cotações e guiá-lo através do processo de aquisição dos alvos de ITO perfeitos para suas aplicações.

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