Os alvos de pulverização catódica de metal são componentes críticos do processo de pulverização catódica usado na fabricação de filmes finos para semicondutores e outras aplicações avançadas. Esses alvos são metais ou ligas de alta pureza com composições químicas específicas e são submetidos a bombardeios físicos por gás ionizado para gerar filmes finos usando um processo chamado pulverização catódica. O material pulverizado do alvo é depositado com precisão no substrato para produzir filmes finos necessários para várias aplicações industriais, incluindo eletrônica, óptica e armazenamento magnético, entre outros. Os alvos de pulverização catódica de metal desempenham um papel essencial na produção de dispositivos eletrônicos de alto desempenho e outras aplicações tecnológicas avançadas.
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